Фильтрация жидкостей, применяемых в производстве полупроводниковых приборов - поддержание среды

На современном этапе развития микроэлектроники, который характеризуется дальнейшим увеличением степени интеграции и уменьшением размеров элементов, в чистых помещениях необходимы среды с классом чистоты 100 и выше. Для этого нужны более эффективные фильтры. Назрела необходимость перехода от фильтров НЕРА к фильтрам типа VEPA и ULPA. При создании чистых помещений следует учитывать, что они являются средством для поддержания требуемой чистоты, а также участком для производства полупроводниковых приборов. На многочисленных этапах полупроводникового производства используются вода, кислоты, щелочи, фоторезисты, растворители, газы. Химические реактивы применяются в гораздо меньших объемах, чем кондиционируемый воздух и чистая вода, однако представляют один из основных источников загрязнения микрочастицами воздуха внутри чистого помещения.

Токсичность химикатов, трудности их фильтрации усложняют анализ содержания в них микрочастиц по сравнению с микрочастицами в воздухе и в чистой воде. Усовершенствование методов анализа химических реактивов началось еще при организации производства БИС ЗУПВ емкостью 64 кбит и продолжается в настоящее время. Ниже будут рассмотрены современные методы фильтрации жидкостей для полупроводникового производства и тенденции их развития.

Ты просто обязан поделиться этой статьёй, жми кнопки внизу!
Написать комментарий
Имя*
Email
Сайт
Введите ответ: 17+3=?
Сообщение*: